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德国BUSCH废气处理系统
普旭真空为半导体、LCD及相关行业提供了应用广泛的新一代废气处理系统。高效的废气处理技术提供净化到阈限值以下的气体,同时满足现有的和发展中的要求。
产品型号
Technology |
Model |
Capacity(SLM) |
Applications |
Gas |
Flameless Catalytic (AFC) |
AFC 0500A |
500 |
PE-CVD, HDP-CVD, ALD(NF3), AMOLED 6G CVD |
Flammable gases,water-soluble gases |
AFC 2000A |
2000 |
AMOLED 6G CVD |
||
Wet-Plasma-Wet(APW) |
APW 0500A |
500 |
etch for PFCs |
|
Burn-Wet (ABW) |
ABW 0500A |
500 |
CVD,etch for PFCs |
|
Thermal-Wet (ATW) |
ATW 0500A |
500 |
ALD,CVD,DIEF |
|
ATW 1000A |
1000 |
ALD,CVD,DIFF,LCD |
||
ATW 3500A |
3500 |
MO-CVD,EPI, LCD(7G) |
||
ATW 4000A |
4000 |
MO-CVD,EPI, LCD(>8G) |
||
Wet(AWE) |
AWE 0500A |
500 |
metal etch |
water-soluble gases |
AWE 0500AE |
500 |
EPI(DCS,TCS) |
||
Semi-Dry (ASD) |
ASD 0800A |
800 |
etch for cost-saving |
无焰催化处理技术(AFC)
AFC是结合了无焰催化热氧化和湿法处理技术的高温催化剂系统。用于 集成到高效单一系统中,旨在减少易燃,水溶性气体并使NF3可容纳高达3000SLM的高气流。
技术特点:
››在半导体应用和AMOLED流程中(使用大量生成气体和NF3的粉末)非常适合CVD工艺(使用NF3作为吹扫气体)。
››金属蚀刻应用的上佳解决方案。
››由于电加热器和废气反应热,催化剂区域始终保持高温,而没有燃烧额外的燃料(LNG)。
››减少NOx生成
››粉末和水溶性气体被捕获在多级润湿区中
››降低了运行成本
››易于维护和滤芯更换
››触摸屏显示
湿法-等离子-湿法处理技术(APW)
APW是一个集成于单一系统的湿法-等离子-湿法处理技术的组合,是氧化物和多晶硅蚀刻工艺应用的理想选择。
技术特点:
››新湿法等离子分离设计
››耐用的反应堆等离子炬和电源设计
››具有高气体DRE(%)的稳定性能
››在废气进入等离子反应器之前,先将副产物和水溶性气体进行预湿区去除
››有效减少CF4,C2F6,SF6等PFCs
››核心零件的使用寿命长和维护周期
››易于清洁和预防性维护
››触摸屏显示
燃烧-湿法处理(ABW)
ABW是集成于单一系统中燃烧和湿法处理技术的组合,旨在有效减少PFCs,是CVD和蚀刻工艺应用的理想选择。
技术特点:
››新快速燃烧湿室分离设计
››多个**联锁
››燃烧室带有水冷壁机制的湍流火焰
››燃烧过程中可能产生的粉末和水溶性气体被捕获在多级润湿区
››有效减少CF4,C2F6,SF6等PFCs
››性能稳定
››运行成本低
››易于清洁和预防性维护
››触摸屏显示
热式-湿法处理技术(ATW)
技术特点:
ATW将电热和湿法处理技术结合在一个系统中,该系统旨在容纳高达4000 SLM的总气流,是重粉生成和腐蚀性应用的理想选择。
››新快速热湿室分离设计
››多个**联锁
››两种减排方法的组合,即热湿法(通过易燃和发火性气体的无焰热氧化改变工艺气体的化学性质)和水溶解(对于水溶性气体)
››易于清洁和预防性维护
››触摸屏显示
湿法处理技术(AWE)
技术特点:
AWE湿式洗涤器是适应高H2和金属粉末生成应用的理想选择。
››金属蚀刻应用的上佳解决方案
››极高的**性和正常运行时间
››四个独立的反应室,配备智能入口防止堵塞功能和强大的文丘里管装置
››内置水循环系统
››降低了运营成本
››触摸屏显示