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产品详情
简单介绍：
INFICON Transpector® 单压取样 (SPS) 残余气体分析仪为目标高压过程提供zui佳半导体晶圆和显示屏面板保护。凭借适合单压应用的zui敏感空气泄漏和过程污染检测，Transpector SPS 可zui大程度减少晶圆和面板报废。它具有业内率先的检测限值和测量速度，确保晶圆和面板产品的质量和数量。
详情介绍：
TRANSPECTOR® SPS 残余气体分析仪
INFICON Transpector® 单压取样 (SPS) 残余气体分析仪为目标高压过程提供zui佳半导体晶圆和显示屏面板保护。凭借适合单压应用的zui敏感空气泄漏和过程污染检测，Transpector SPS 可zui大程度减少晶圆和面板报废。它具有业内率先的检测限值和测量速度，确保晶圆和面板产品的质量和数量。Transpector SPS 提供zui可靠的过程监控，确保实现稳定的高压过程，进而zui大程度提高过程能力和产量。该仪器融合了简单且高成本效益的入口系统与经实践验证的离子源和泵组，以提供低风险、高回报的气体分析解决方案。Transpector SPS 是一种经过验证的解决方案，适用于真空电弧重熔 (VAR) 等冶金和热处理应用，且是一般真空和工业应用的理想之选。Transpector SPS 可根据具体应用和预算进行配置和定制。 针对从 1E-4 Torr 到大气的取样过程压强，均可选用标准孔板、劈刀和旁路线组合。耐腐蚀入口、离子源和泵组的设计可确保在蚀刻、CVD、ALD 和其他腐蚀性气体过程中的耐受性。
好处
- 得益于单压取样入口，zui大程度降低晶圆和面板保护的总拥有成本；是扩散、外延和 RTP 等高压 过程的理想之选
- 提供zui低漏气量和污染监测，确保恒定高压过程
- 通过 强大数据采集与同步实现无缝工厂集成和可靠阻断
- 通过定制 配方优化增强独特生产能力
- 通过即时现场专家响应保护关键过程需求
典型应用
- PVD 过程
- 扩散和外延过程
- 蚀刻过程包括：金属、电介质、硅刻蚀, HDP-etch
- CVD 过程包括：高 k 电介质、HDP-CVD、LP-CVD、SA-CVD、CVD 低 k、PE-CVD
